市場訊息
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380 輔助濺射鍍制 Al2O3 薄膜
氧化物薄膜具有優越的機械、光學性能以及良好的環境穩定性, 被廣泛應用於可見近紅外波段製備各種低損耗光學薄膜.
某國內精密光學薄膜製造商為了獲得品質良好的Al2O3 薄膜, 採用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380 和KRI 考夫曼離子源 KDC100 輔助濺射鍍制 Al2O3 薄膜.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:
|
射頻離子源型號 |
RFICP380 |
|
Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
|
離子束流 |
>1500 mA |
|
離子動能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
30 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
15-50 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長度 |
39 cm |
|
直徑 |
59 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
工藝簡介:
該製造商採用雙離子輔助鍍制 Al2O3 薄膜, 其中一個離子源（KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380）主要是用於產生高能氬離子束轟擊靶材, 通過動量傳遞使靶材原子獲得足夠的動能而脫離靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉積而形成一層薄膜;
另一個輔助離子源（KRI 考夫曼離子源 KDC100）通入氧氣和氬氣的混合氣體, 通過對生長中的薄膜的轟擊, 使得薄膜進一步緻密, 同時改善薄膜的化學計量比.
伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC100 技術參數：
|
離子源型號 |
|
|
Discharge |
DC 熱離子 |
|
離子束流 |
>400 mA |
|
離子動能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
12 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
2-20 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長度 |
23.5 cm |
|
直徑 |
19.4 cm |
|
中和器 |
燈絲 |
* 可選: 可調角度的支架
其工作示意圖如下:
.jpg)
運行結果:
1. 製備的薄膜在中紅外波段具有高的折射率和低的消光係數, 光滑的表面特性和極低的表面散射耗損, 在 2.7μm波段沒有發現由於水吸收導致的消光係數的增大;
2. 製備的反射膜在 2.7 μm反射率達到了 99.63%, 接近於理論計算值;
3. 鍍制的Al2O3 薄膜具有優良的環境穩定性.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 測漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫衝擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
.png)
若您需要進一步的瞭解詳細資訊或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權所有, 翻拷必究！