Electron Source
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用於離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 伯東公司是美國考夫曼離子源大中華地區總代理.
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霍爾離子源 射頻離子源 考夫曼離子源 自動控制器
e-Mission Filament
KRI Ion Source e-Mission Filament
|
Model |
HFx |
SHC 1000 |
DSHC 1000 |
|---|---|---|---|
|
Cathode |
Yes |
Yes |
Yes |
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Neutralizer |
Yes |
Yes |
Yes |
|
Orientation |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
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Regulation |
Emission |
Emission |
Emission |
e-Mission Hollow Cathodes
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Model |
HFx |
SHC 1000 |
DSHC 1000 |
|---|---|---|---|
|
Cathode |
Yes |
Yes |
Yes |
|
Neutralizer |
Yes |
Yes |
Yes |
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Orientation |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
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Regulation |
Emission |
Emission |
Emission |
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