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伯東公司代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 中型規格柵極離子源, 廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中, 考夫曼離子源 KDC 100 採用雙陰極燈絲和自對準柵極, 標準配置下離子能量範圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 400 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術參數：

型號	KDC 100
供電	DC magnetic confinement
- 陰極燈絲	2
- 陽極電壓	0-100V DC
電子束	OptiBeam™
- 柵極	專用, 自對準
-柵極直徑	12 cm
中和器	燈絲
電源控制	KSC 1212
配置	-
- 陰極中和器	Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000
- 安裝	移動或快速法蘭
- 高度	9.25'
- 直徑	7.6'
- 離子束	聚焦 平行 散設
-加工材料	金屬 電介質 半導體
-工藝氣體	惰性 活性 混合
-安裝距離	8-36”
- 自動控制	控制4種氣體

* 可選: 可調角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 100 應用領域：
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表面改性, 啟動 SM
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE

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