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全自動離子刻蝕機 MEL 3100
伯東公司日本原裝進口全自動離子刻蝕機 MEL 3100, 蝕刻速率 >10(nm/min), 均勻性 ≤±5%, 全自動化系統減少人工作業, 保證產品高穩定性和高品質. 有效減少因人工作業帶來的損失！
全自動離子刻蝕機 MEL 3100 特性
全自動化系統
清潔: 鈦用於經常暴露於離子束的零件, 以產生低粒子. 晶圓輸送盒採用高效空氣篩檢程式.
占地面積小, 方便維護
10.4英寸觸控式螢幕
配置美國 KRI 考夫曼離子源和德國 Pfeiffer 分子泵.
全自動離子刻蝕機 MEL 3100 技術規格.
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型號 |
MEL 3100 |
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樣品數量尺寸 |
3”φ-6”φ,1片 |
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晶圓輸送盒 |
1個, 25 片晶圓 |
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極限真空 |
8x10-5 Pa |
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均勻性 |
≤±5% |
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蝕刻速率 |
>10(nm/min) @SiO2 |
Hakuto 日本原裝設計製造離子刻蝕機 IBE, 提供微米級刻蝕, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料,黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及複合半導體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用於反應離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計交付約 500套離子蝕刻機. 蝕刻機可配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵和美國 KRI 考夫曼離子源!
伯東公司超過 50年的刻蝕 IBE 市場經驗, 擁有龐大的安裝基礎和經過市場驗證的刻蝕技術!
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