Power Supply and Control

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用於離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 伯東公司是美國考夫曼離子源大中華地區總代理.
KRI 考夫曼離子源
            霍爾離子源                               射頻離子源                        考夫曼離子源                                   自動控制器  

Power Supply and Control

KRI Ion Source Power Supply and Control

Model

AC Power

Controllers

DC Power

Controllers

RF Power

Controllers

Gas

Controllers

Automated System

Controllers

 

FC1000

DC150-x

RF1000

GC1000

AC1000

 

FC1006

DC300-x

RF1500

 

AC1000C

 

 

DC800-x

 

 

 

 

 

DC1000-x

 

 

 

 

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