霍爾離子源 eH 3000
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霍爾離子源 eH 3000

KRI 霍爾離子源 eH 3000

伯東公司代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷卻
• 可拆卸陽極組件 - 易於維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 隨插即用備用陽極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
• 高效的等離子轉換和穩定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數

型號

eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

供電

DC magnetic confinement

  - 電壓

50-250V VDC

  - 離子源直徑

~ 7 cm

  - 陽極結構

模組化

電源控制

eHx-25020A

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

 - 離子束髮散角度

> 45° (hwhm)

  - 陽極

標準或 Grooved

 - 水冷

前板水冷

 - 底座

移動或快接法蘭

 - 高度

4.0'

 - 直徑

5.7'

 - 加工材料

金屬
電介質
半導體

 - 工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

 - 安裝距離

16-45”

 - 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調角度的支架;

KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
表面改性, 啟動 SM
直接沉積 DD

 

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