霍爾離子源 Gridless End-Hall
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用於離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 伯東公司是美國考夫曼離子源大中華地區總代理.
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霍爾離子源 射頻離子源 考夫曼離子源 自動控制器
霍爾離子源 eH 400
低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統
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型號 |
離子束能量 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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eH 400 |
25-300eV |
> 750mA |
3.7” |
> 45°散射 |
霍爾離子源 eH 1000
eH 1000 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 通常應用於離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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eH 1000 |
100-300 V |
10A |
5.7” |
> 45°散射 |
霍爾離子源 eH 2000
eH 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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eH 2000 |
50-250 V |
10A |
5.7” |
> 45°散射 |
霍爾離子源 eH 3000
適合大型真空系統, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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eH 3000 |
50-250 V |
20A |
9.7” |
> 45°散射 |
線性霍爾離子源 eH Linear
線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用於寬範圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現最佳的均勻性和離子流
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型號 |
離子束動能 |
最大離子束流 |
柵極直徑 |
離子束流形狀 |
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eH Linear |
50-300 V |
NA |
NA |
> 45°散射 |
E-mail contact
+886-2-8772-8910