霍爾離子源 Gridless End-Hall

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用於離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 伯東公司是美國考夫曼離子源大中華地區總代理.
KRI 考夫曼離子源
            霍爾離子源                               射頻離子源                        考夫曼離子源                                   自動控制器  

霍爾離子源 eH 系列

高電流低能量寬束型離子源

型號

eH 400

eH 1000

eH 2000

eH 3000

eH Linear

離子動能

50-300 V

50-300 V

50-300 V

50-250 V

50-300 V

離子束流

5A

10A

10A

20A

根據實際應用

散射角度

>45

>45

>45

>45

>45

霍爾離子源 eH 400

低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統

型號

離子束能量

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

eH 400

25-300eV

> 750mA

3.7”

> 45°散射

霍爾離子源 eH 1000

eH 1000 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 通常應用於離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻

型號

離子束動能

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

eH 1000

100-300 V

10A

5.7”

> 45°散射

霍爾離子源 eH 2000

eH 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統

型號

離子束動能

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

eH 2000

50-250 V

10A

5.7”

> 45°散射

霍爾離子源 eH 3000

適合大型真空系統, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.

型號

離子束動能

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

eH 3000

50-250 V

20A

9.7”

> 45°散射

線性霍爾離子源 eH Linear

線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用於寬範圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現最佳的均勻性和離子流

型號

離子束動能

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

eH Linear

50-300 V

NA

NA

> 45°散射

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