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考夫曼離子源 Gridded KDC

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用於離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 伯東公司是美國考夫曼離子源大中華地區總代理.
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考夫曼離子源 KDC 系列

考夫曼離子源 KDC 系列 產品詳細資料

離子源通過加熱燈絲產生離子束, 低濃度高能量寬束型離子源

型號

KDC 10

KDC 40

KDC 75

KDC 100

KDC 160

離子束流

>10 mA

>100 mA

>250 mA

>400 mA

>650 mA

離子動能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

柵極直徑

1 cm Φ

4 cm Φ

7.5 cm Φ

12 cm Φ

16 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

KRI 考夫曼離子源 KDC 10

KRI 考夫曼離子源 KDC 10 產品詳細資料

適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗, 離子濺射, 離子蝕刻

型號

離子束動能

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

KDC 10

100-1200 V

>10 mA

1 cm Φ

聚焦, 平行, 散射

KRI 考夫曼離子源 KDC 40

KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產品詳細資料

小型低成本直流柵極離子源

型號

離子束動能

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

KDC 40

100-1200 V

>100 mA

4cm Φ

聚焦, 平行, 散射

KRI 考夫曼離子源 KDC 75

KRI 考夫曼離子源 KDC 75 產品詳細資料

緊湊柵極離子源

型號

離子束動能

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

KDC 40

100-1200 V

>250 mA

7.5cm Φ

聚焦, 平行, 散射

KRI 考夫曼離子源 KDC 100

KRI 考夫曼離子源 KDC 100 產品詳細資料

廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中

型號

離子束動能

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

KDC 100

100-1200 V

>400 mA

12cm Φ

聚焦, 平行, 散射

KRI 考夫曼離子源 KDC 160

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 產品詳細資料

考夫曼 KDC 系列最大, 離子能量最強的柵極離子源, 適用於已知的所有離子源應用

型號

離子束動能

最大離子束流

柵極直徑

離子束流形狀

KDC 160

100-1200 V

>650 mA

16cm Φ

聚焦, 平行, 散射
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+886-2-8772-8910