客製化真空設備

連續式濺鍍設備


連續式濺鍍設備 In Line Sputter
量產型設備,備多種生產規格或客制化開發,適用各種不同制程
 

枚葉式蒸/濺鍍設備


多腔獨立式
包含 Load/unload & 制程腔外掛多種設計方式

批次式濺鍍設備


Batch Type Sputter
批次生產模式, 真空翻轉/公自轉設計,適用各種產品、制程
 

往覆式濺鍍式設備


Inter back Sputter
往覆式生產設計,量產兼具制程開發設備功能,客制化專屬開發
 

PECVD 化學氣相沉積


友善的使用者操作介面
簡易的保養維護以及長期運轉的機台穩定度
是國內薄膜制程機台的首選

真空蝕刻設備


本公司推出的 iRP 是一部單腔批次式的電漿清潔與表面改質系統

全自動光學系統


單面 90 層的突破 (BandPass Filter) 帶通藍色濾光片
X-Cube 的震撼 (雙面101層) 投影機菱鏡
適用 Laser Diode 之制
 

熱電阻式蒸鍍系統


R/H 蒸發源設計
多組蒸發源且均有高均勻性之設計

Pfeiffer 氦氣回收裝置

Pfeiffer 氦氣回收裝置

類型

Ballon 氦氣回收裝置

Vessel 氦氣回收裝置

型號

CB13-35

CB11-55

CB10-200

CV12-10

CV16-50

CV33-50

最大氣體流量

210 std l/min

180 std l/min

170 std l/min

200 std l/min

260 std l/min

550 std l/min

最大壓力

35 bar

64 bar

300 bar

10 bar

55 bar

55 bar

壓縮機類型

油潤滑

油潤滑

油潤滑

油潤滑

幹式

幹式

氦氣回收率(理想環境)

95%

95%

95%

98%

98%

98%

 

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E-mail contact

+886-2-8772-8910