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伯東公司美国考夫曼柵極離子源 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) Gridded 成功應用於離子濺射鍍膜 (IBSD).伯東公司為美國考夫曼公司 Kaufman & Robinson, Inc 大中國區總代理.美國考夫曼公司柵極離子源 Gridded Ion Sources 系列 RFCIP (射頻電源式考夫曼離子源), KDC (直流電源式考夫曼離子源) 已廣泛被應用於離子濺射鍍膜 (IBSD) 工藝.考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度,使濺射 (Sputtering) 時靶材 (Target) 被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密,高品質之薄膜.伯東公司考夫曼離子源可依客戶濺射 (Sputtering) 工藝條件選擇 RFICP (射頻電源式考夫曼離子源) 或是 KDC(直流電原式考夫曼離子源).

規格如下:

  • RFCIP (射頻式考夫曼離子源) : RFICP40, RFICP100, RFICP140, RFICP200, RFICP300.
  • KDC (直流式考夫曼離子源): KDC10, KDC40, KDC75, KDC100, KDC160.
    離子源

伯東公司主要經營產品 德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 幹式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用於各種條件下的真空測量 (真空計, 真空規管); 氦質譜測漏儀; 質譜分析儀；真空系統以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵,Polycold 冷凍機;美國 KRI  Kaufman 考夫曼離子源/離子槍和 inTEST 高低溫循環溫度控制系統。
 

 

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