分子泵 LOW-E 生產線抽真空
Pfeiffer 分子泵在LOW-E(低輻射玻璃)生產線中的應用
LOW-E全名Low emissivity,是低輻射鍍膜玻璃。相對熱反射玻璃而言是一種新型節能玻璃。目前國際上普遍採用真空磁控濺射鍍膜技術(離線法)生產Low-E玻璃。伯東公司銷售的德國 Pfeiffer 分子泵成功應用於此。
原理:玻璃垂直放置在架子上,送入10-1帕數量級的真空環境中,通入適量的工藝氣體(惰性氣體Ar或反應氣體O2、N2),並保持真空度穩定。將靶材Ag、Si等嵌入陰極,並在與陰極垂直的水準方向置入磁場從而構成磁控靶。以磁控靶為陰極,加上直流或交流電源,在高電壓的作用下,工藝氣體發生電離,形成等離子體。其中,電子在電場和磁場的共同作用下,進行高速螺旋運動,碰撞氣體分子,產生更多的正離子和電子;正離子在電場的作用下,達到一定的能量後撞擊陰極靶材,被濺射出的靶材沉積在玻璃基片上形成薄膜。為了形成均勻一致的膜層,陰極靶靠近玻璃表面來回移動。為了取得多層膜,必須使用多個陰極,每一個陰極均是在玻璃表面來回移動,形成一定的膜厚。
德國 Pfeiffer 憑藉其120多年的真空製造經驗和全球範圍內的售後服務和技術支援贏得LOW-E市場客戶的青睞,德國馮.阿登納(VON ARDENNE)是最典型的客戶。Pfeiffer 分子泵的LOE-E生產線使用在信義玻璃,南玻等中國玻璃製造巨頭。
Pfeiffer 分子泵優點:
- 多抽速供客戶選擇,抽速為1,000至2,000L/S
- 對於H2,He和Ar,CF4有高的抽速
- 安裝位置從0到90度,90到180度
- 高的氣體流通量,即使是Ar,CF4
- 集成的TC 1200驅動單元可直接連接電源
- 抗腐蝕能力供選擇
- 豐富的介面:RS-485以及遠端控制;Profibus或者DeviceNet可供選擇
- 擁有IP 54和Semi S2 等級
- 穩定安全的轉子軸承系統
- 符合UL,CSA以及TUV認證
- 簡單的安裝
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