市場訊息
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220用於 ZAO 透明導電薄膜及性能研究試驗
某實驗室運用直流磁控濺射法, 採用 ZAO 陶瓷靶材, 結合正交試驗表通過改變製備工藝中的基片溫度、濺射功率、氧流量百分比等參數, 在普通玻璃襯底上製備得到 ZnO: Al（ZAO）透明導電薄膜.
試驗設備:
伯東 KRI 聚焦射頻離子源 RFICP 220 進行濺射,選用 ZAO 陶瓷靶, 基片為普通玻璃, 普發 Pfeiffer 旋片泵 Duo 3
工藝要求:
靶與基片距離為5cm, 濺射時間為30 min
.png)
伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 220 技術參數:
|
離子源型號 |
RFICP 220 |
|
Discharge |
RFICP 射頻 |
|
離子束流 |
>800 mA |
|
離子動能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
20 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦 |
|
流量 |
10-40 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長度 |
30 cm |
|
直徑 |
41 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
推薦理由:
聚焦型射頻離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
在整個實驗工藝中工作氣壓保持在 3x 10-1Pa, 因此採用伯東 Pfeiffer 旋片泵 Duo 3.
伯東 Pfeiffer 旋片泵 Duo 3 技術參數如下:
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 測漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫衝擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
.png)
若您需要進一步的瞭解詳細資訊或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權所有, 翻拷必究！