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常見蒸鍍機台與對應 KRI 霍爾離子源型號：

蒸鍍機台尺寸

KRI 離子源

~1100mm

eH1010

1100~1400mm

eH1010, eH1020

1400~1900mm

eH1020, eH3000

KRI

KRI 考夫曼霍爾離子源 controller 自動化控制及連線自動化設計，提供使用者在操作上更是便利。
離子源

 

KRI 考夫曼霍爾離子源 Gun body 模組化之設計、提供使用者在於基本保養中能夠降低成本及便利性。
離子源

伯東公司客戶 1400 mm 蒸鍍鍍膜機安裝 KRI考夫曼霍爾離子源 EH1020 F，應用於塑膠光學鍍膜。
離子源
 

離子源

離子源

KRI 考夫曼霍爾離子源 EH1020 主要參數:

Filament Controller

Discharge controller

Gas controller

17.2A/ 22V

150V/ 4.85A

Ar/ 32sccm

離子源

利用 KRI 考夫曼霍爾離子源輔助鍍膜及無離子源輔助鍍膜對鍍膜品質之比較：

　

KRI EH1020 輔助鍍膜

無 Ion Source 輔助鍍膜

鹽水煮沸脫膜測試

優

劣

破壞性百格脫膜測試

優

劣

光學折射設率

高

低

膜層緻密性

優

劣

膜層光學吸收率

無

有

制程腔體加熱溫度

低

高

生產成本

低

高


 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 



KRI 考夫曼霍爾離子源系列主要型號包含：

 

離子源 eH200

 離子源 eH400

離子源 eH1010

離子源 eH1020

離子源 eH3000

Cathode

Filament or Hollow cathode

Filament or Hollow cathode

Filament or Hollow cathode

Filament or Hollow cathode

Hollow cathode

Water Cooled Anode

no

no

no

yes

no

Discharge Currentmax

2 A

3.5 (7) A

10 (7) A

10 (20) A

20 (10) A

Discharge  Voltagemax

300 V

300 (150) V

300 (150 ) V

300 (150) V

250 (300) V

Discharge  Voltagemin

40* V

40* V

40* V

40* V

40* V

Divergence (hmhw)

45°

45°

45°

45°

45°

Height (nominal)

2.0”

3.0”

4.0”

4.0”

6.0”

Diameter (nominal)

2.5”

3.7”

5.7”

5.7”

9.7”

 

伯東公司主要經營產品 德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 幹式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用於各種條件下的真空測量 (真空計, 真空規管); 氦質譜測漏儀; 質譜分析儀；真空系統以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵,Polycold 冷凍機;美國 KRI  Kaufman 考夫曼離子源/離子槍和 inTEST 高低溫循環溫度控制系統。
 

 

若您需要進一步的了解祥细信息或討論. 請登錄我们網站: www.hakuto-vacuum.com.tw

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