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德國進口Pfeiffer Vacuum分子泵組HiCube 80應用於脈衝激光沉積系統(Pulsed Laser Deposition,PLD)
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伯東公司代理的德國Pfeiffer 分子泵組HiCube 80 廣泛用於脈衝激光沉
積系統(Pulsed LaserDeposition,PLD)
Pfeiffer Vacuum 真空泵組HiCube 80 由HiPace 80, MVP 015-2, TPS 110, DCU 002組成; 具有
體積小（尺寸: 長寬高301*325*135mm）, 模塊化設計, 便攜式, 前級泵 為乾泵（隔膜泵）, 真空度能達到1.10-7 mbar等優點. |
進口PLD（脈衝激光沉積）系統使用HiCube 80
脈衝激光沉積（Pulsed Laser Deposition, PLD）, 是一種利用激光對物體進行轟擊, 然後將轟擊出來的物質沉澱在不同的襯底上, 得到沉澱或者薄膜的一種手段. PLD 系統由多個真空腔體組成, 整個系統需要超高真空; 由於各個輔助腔體, 體積小, 因此使用HiCube 80真空泵組非常實用.
該PLD系統用到德國Pfeiffer 真空泵數量:
1. HiCube 80*7
2. Hipace 300*2
該脈衝激光沉積系統基本規格:
1.系統功能：主要用於製備有機自旋閥器件，還可用於製備有機發光二極管、太陽能電池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.樣品尺寸：直徑2’’
4.基板加熱溫度：1000度
5.鍍膜方式：Effusion Cell/Plasma Cell
6.膜生長控制模式：鍍率/厚度/時間控制模式
伯東公司主要經營產品德國Pfeiffer渦輪分子泵, 乾式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用於各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管); 氦質譜檢漏儀, 質譜分析儀, 真空系統以及美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源.
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