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Pfeiffer 分子泵組應用於鎧柏科技公司脈衝激光沉積系統
脈衝激光沉積（Pulsed Laser Deposition, PLD），是一種利用激光對物體進行轟擊，然後將轟擊出來的物質沉澱在不同的襯底上, 得到沉澱或者薄膜的一種手段. PLD 系統由多個真空腔體組成，整個系統需要超高真空且不能引入任何雜質，對環境的清潔度要求較高，必須配備無油幹泵和分子泵抽真空。由於各個輔助腔體體積較小, 因此特別適合使用pfeiffer Hicube 系列分子泵組. 伯東公司銷售維修的Pfeiffer 分子泵組因其結構緊湊體積小，清潔無油（前級泵配備幹泵）、抽速快、極限真空度高達10-11mbar等優點一經上市好評如潮。
客戶案例一：南京某大學物理學院
1.系統功能：主要用於Mn氧化物膜,陶瓷氧化膜或金屬膜的製備
2.真空度要求: 真空度< 1x10-8 mbar
3.樣品尺寸：大約1cm2
4.基板加熱溫度：700至1000度
鎧柏科技公司的該PLD系統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵組 pfeiffer HiCube 80 Eco
正在促銷中，詳情：http://www.hakuto-vacuum.com.tw/news-detail.php?id=68&page=1
2.渦輪分子泵 pfeiffer Hipace 700
客戶案例二：上海某研究所脈衝激光沉積系統基本規格:
1.系統功能：主要用於製備有機自旋閥器件，還可用於製備有機發光二極管、太陽能電池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.樣品尺寸：直徑2’
4.基板加熱溫度：1000度
5.鍍膜方式：Effusion Cell/Plasma Cell
6.膜生長控制模式：鍍率/厚度/時間控制模式
鎧柏科技公司的該PLD系統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵組 pfeiffer HiCube 80*7
2.渦輪分子泵 pfeiffer Hipace 300*2
伯東公司主要經營產品德國Pfeiffer 渦輪分子泵, 乾式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用於各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管); 氦質譜檢漏儀；質譜分析儀；真空系統以及美國Brooks CTI Cryo pump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源.Gamma離子
泵