市場訊息
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 輔助鍍制 OSR 膜層
某光學薄膜製造商為了提高光學太陽反射鏡OSR的膜層附著力, 採用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 在鍍膜前清洗光學太陽反射鏡OSR.
伯東 KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術參數:
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型號 |
RFICP 140 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>600 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
14 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
24.6 cm |
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直徑 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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推薦使用 KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140是因為其束流密度、能量可以精確控制, 工藝剛好符合客戶要求.
其工藝流程為:
在原有的真空鍍膜機上安裝一台KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140, 產生離子束. 離子束清洗應用在鍍膜沉積前, 利用離子束轟擊基片, 濺射基片表面的污染物進行淨化, 同時也對基片表面除氣.
先將清洗乾淨的石英玻璃基片放入真空室,再將系統的真空度抽至低於 5·10-4Pa, 然後充入工作氣體氬氣保持 5min 後, 打開離子源進行清洗. 清洗完畢後再次將系統的真空度抽至低於 5·10-4Pa,充入氬氣至 0.3Pa 進行濺射鍍銀.
為了保證真空室的真空度, 客戶採用的是伯東Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace1800, 其參數如下：
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分子泵型號 |
介面 DN |
抽速 l/s |
壓縮比 |
最高啟動壓強mbar |
極限壓力 |
全轉速氣體流量hPa l/s |
啟動 |
重量 |
|||
|
進氣 |
排氣 |
氮氣 |
氦氣He |
氫氣 H2 |
氮氣 |
氮氣N2 |
hPa |
氮氣N2 |
min |
kg |
|
|
Hipace 1800 |
200 |
40 |
1,450 |
1,650 |
1,700 |
> 1X108 |
1.8 |
< 1X10–7 |
20 |
4 |
33 – 34 |
運行結果:
KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140可以對基片表面進行有效的清潔、活化的, 有利於改善膜層附著力
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 測漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫衝擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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