Power Supply and Control
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Power Supply and Control


KRI Ion SourceP ower Supply and Power Pack Controllers 功率控制器

KRI Ion Source 應用領域:

無柵極等離子源技術
----End-Hall 離子/等離子源
有柵極離子源技術
----RFICP 離子源
----DC 離子源
電子源技術
----燈絲
----中空陰極 (Hollow cathode)
----等離子中和器
單機應用
----直流電源 (DC power)
----射頻電源 (RF power)

有多個模組組成,模組的特性取決於功率、頻率、電壓、電流和控制方式,大多數模組都滿足 CE 和 CoHS 標準。

監控:監視器
穩定輸出:設置的最優化
狀態診斷:用戶直接獲取
參數存儲:準確保存

連續性和穩定性
功率控制器能夠在緊急情況下比如載入高能量的等離子體、短路、電流過沖、電壓過沖和功率過沖的情況,實現保護功能。確保在運行沉積和刻蝕工藝時進行不間斷的操作。通過數顯的面板,可以即時觀測和控制工藝參數和狀態資訊。

KRI Individual Power Supply Controller 獨立的功率控制器
功率控制器可以單獨使用也可以集成到其它功率包中,能提供直流、交流和射頻功率。
AC Power 交流電源

交流電源輸出一個低頻的直流信號,適用於低阻抗負載,比如驅動類似於燈絲這樣的發熱原件,通過大的功率加熱燈絲到發射熱電子的溫度。
交流電源比直流電源更有利於燈絲壽命的延長
軟起功能有助於平穩的提高燈絲溫度從冷起到電子發射的溫度

型號:
FC 1000
FC 1006
DC Power 直流電源

直流電源通常應有在等離子體輝光放電、偏壓和離子加速。可提供幾千瓦的輸出功率,電壓範圍 80~1000 V。典型應用是用於離子、等離子和電子源的電極和襯底偏壓。
對陽極施以電壓點燃和維持等離子放電
對等離子施以偏壓去定量離子能量
對離子光柵施以偏壓去撲捉和加速離子
對陰極施以電壓獲得電子流
輸出的電壓、電流和調節模式可選,可更具需要選擇輸出值像等離子電位、離子能量、電子流和離子軌道等參數。

RF Power 射頻電源
射頻電源產生一個射頻信號,適用於低阻抗的電磁負載,典型應用是驅動射頻天線將能量輻射進等離子腔室。通過感應耦合的方式射頻功率產生和維持一個高密度的等離子。通過自動阻抗匹配使功率大的傳輸最優化,此外設計上使電容耦合和功率衰減最小化。

型號:
RF 1000
RF 1500
氣體控制器:
KRI 氣體控制器提供功率和控制多路品質流量計,能夠使用於不同的氣體和氣體混合物,而且可以和幾乎所有的不同製造商的模組相容,數字顯示模式。使用者可以自行設置流量並有存儲功能。

型號: GC 1000
自動系統控制器:

是一個可程式設計的單元,能集成到電源模組中去提供完美的功率控制。該控制器採用獨有的通信協定與功率模組進行快捷的通信,實現控制功能。
它能夠自動選擇最優的模式去校準等離子負載,達到最穩定的狀態,同時可以選擇回饋模式。能存儲多個工藝程序,同時控制多個 MFC。

自動系統控制器:
是一個可程式設計的單元,能集成到電源模組中去提供完美的功率控制。該控制器採用獨有的通信協定與功率模組進行快捷的通信,實現控制功能。
它能夠自動選擇最優的模式去校準等離子負載,達到最穩定的狀態,同時可以選擇回饋模式。能存儲多個工藝程序,同時控制多個MFC。

KRI Integrated Power Pack Controller 電源模組集成包
電源模組集成包有獨立的電源模組衍生而來,因為 KRI 的獨立電源模組是一種標準的模組,所以這些模組能夠容易的集成到自動、多功能的功率包中。集成包是一個強有力的工具,能夠簡化等離子、離子和電子源的操作,最大的優點是可以方便的實現功率控制的最優化。

當經常應用在如下的場合:
1. 工藝工程師想實現寬範圍的工藝設計和優化,渴望確保參數的重複性,工藝可控
2. 生產經理想實現一個簡單的命令操作,使工藝參數快速穩定
3. OEM 想實現高的集成度從而降低成本
4. 從事薄膜表面和納米結構的科研工作者想實現靈活、精確的工藝控制

eH Plasma Power Pack Controller---eH 等離子功率集成包
eH 等離子功率集成包用於驅動 end-Hall 離子源,它由電子發射模組、等離子放電模組和自動系統控制模組組成,結構緊湊、重量輕便。適用于材料工藝中要求高效、穩定和精確的電子或離子源的功率控制。

它能給 end-Hall 等離子源的陽極或陰極提供功率,使用者可根據需要設置陽極的離子密度和離子能量,同樣的使用者也可以界定陰極的電子流參數。eH Plasma Power Pack 能夠跟蹤離子流,自動發射電子確保電中性。

eH Plasma Power Pack 有自我保護功能,同時它是一個快速反應的功率源,可以在幾秒鐘內點火產生等離子,並在幾秒鐘內使離子束達到穩定。可以存儲多個工藝程序、控制多個MFC確保對多種氣體和氣體混合物的精確控制。
使用者能容易的設置各種參數和模式、狀態,面版上會顯示出設定值、運行值、功能表存儲資訊和工作狀態資訊。

KRI RFICP Ion Power Pack Controller 射頻感應耦合等離子功率集成包
RFICP Ion Power Pack Controller 用於驅動有柵極離子源,由中和器模組、放電模組、偏壓模組和加速模組組成,這些模組集成在一個 19” 的集成包中。

RFICP Ion Power Pack Controller 給離子源的射頻線圈、離子光學和中和器提供電源,將射頻功率耦合到輝光放電腔室,產生高密度的等離子體。配有自動阻抗適配器實現最優化,用戶可以選擇離子能量和離子密度來滿足工藝的要求。廣泛用於沉積和刻蝕工藝中。
射頻的額定功率 0.5 KW 或更高,中和器的額定功率 0.5 A 或更高。
 

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