連續式濺鍍設備
瀏覽數: 3372

連續式濺鍍設備

連續式濺鍍設備 In Line Sputter,
量產型設備,備多種生產規格或客制化開發,適用各種不同制程

1. 多腔連續式,包含垂直/水準兩種設計方式
2. 連續式生產,搭配自動回流線設計,產量大
3. 可設計純金屬濺鍍、反應式濺鍍、混合式濺鍍、表面清潔,改質 等多種制程搭配
4. 依產品性質,可搭配機械手臂自動上/下貨設計,減少人力支出
5. 人性化操作介面,高靶材利用率,高設備稼動率

連續式濺鍍設備適用領域:

抗電磁波(EMI)、產品裝飾膜(NCVM)、被動元件(Chip R)、觸控螢幕(T.P)、彩色濾光片(C.F)、顯示器(TFT;OLED)、薄膜太陽能電池(Solar cell)
 

其他產品