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伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 在磁控濺射玻璃鍍膜中的應用

 

使用平面磁控濺射陰極進行反應性濺射時的”靶中毒”和”陽極消失”, 這兩問題一直是玻璃鍍膜行業的難題.

 

某國內玻璃製造商採用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP380 離子清洗技術清除沉積在靶面和陽極表面的反應產物, 如氧化物, 從而保持靶和陽極表面導電性, 避免發生”靶中毒”和”陽極消失”現象.

 

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 技術參數：

射頻離子源型號

RFICP 380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由：

1. 使用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP 380 可以準確、靈活地對樣品選定的區域進行清洗

2. 離子束流高, 滿足客戶工藝要求

3. 清洗速率快

.

工作原理:

在真空室充入 100sccm 的氬氣, 利用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP380把氬氣電離, 形成離子體, 利用氬離子撞擊靶面, 從靶面上撞出錫原子或氧化錫分子, 完成對錫靶的清潔. 撞擊出來的錫原子撞擊陽極表面, 清除吸附陽極表面與表層銦結合力不強的部分氧化錫分子, 完成對陽極表面的清洗.

其清洗實施工作圖如下:

 

一次清洗大約用時15s, 前5秒主要清潔靶面, 後10秒清潔陽極表面.

 

運行結果：

有效的清潔陰極靶面和陽極表面, 保持陰極靶面和陽極表面良好的導電性, 避免發生”靶中毒”和”陽極消失”現象

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  測漏儀,  質譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國 inTEST 高低溫衝擊測試機,  美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 

若您需要進一步的瞭解詳細資訊或討論,  請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
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