市場訊息
伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eH 3000用於玻璃基片清洗
無論是何種膜系結構, 玻璃基片表面的清潔程度和表面狀態將直接影響所鍍膜層的品質, 如薄膜的附著力/ 粗糙度以及薄膜的物理性能與機械強度.
但在放置和傳輸過程中會對玻璃基片表面難以避免地出現不明污染物, 失去“新鮮表面”形成鈍化層, 甚至可視痕跡. 對於低輻射玻璃而言, 在瑕疵處生長的銀膜會在後續鋼化及熱彎過程中形成團聚, 導致透光性能與低輻射性能嚴重惡化, 鍍膜產品報廢,降低成品率.
因此, 國內某玻璃製造商採用伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eH 3000 在玻璃基片傳輸後/ 鍍膜前進行線上基片表面處理工序.
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:
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離子源型號
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Cathode/Neutralizer |
HC |
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電壓 |
50-250V |
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電流 |
20A |
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散射角度 |
>45 |
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可充氣體 |
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
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氣體流量 |
5-100sccm |
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高度 |
6.0“ |
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直徑 |
9.7“ |
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水冷 |
可選 |
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
該製造商採用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000離子源解離 Ar 氣體,轟擊玻璃表面, 對玻璃基片表面進行清洗和刻蝕.
推薦理由：
設備穩定,抗污染能力強, 可以進行基片表面清洗與輔助沉積, KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 對玻璃基片表面有效去除二次污染/ 增加基片表面能/ 控制基片表面粗糙度.
運行結果:
- KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 能有效去除二次污染,
- 對玻璃基片有效清洗清洗和刻蝕, 獲得更清潔/ 平滑的玻璃基片表面
- 提高了所鍍膜層的品質, 提高薄膜的附著力, 改善薄膜粗糙度以及薄膜的物理性能與機械強度
- 降低了鍍膜產品報廢, 提高了成品率
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 测漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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