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伯東 KRI 考夫曼射頻離子源在 PCB 用鑽頭銑刀上的應用

 

電子工業的飛速發展對線路板製造業的要求越來越高, 線路板層數越來越高, 孔密越來越大並向微孔化不斷發展, 某國內製造商為了銑刀進行銑邊及成型加工時, 減少產品的披鋒、毛刺及銑刀斷刀, 採用伯東 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380輔助鑽頭銑刀上鍍膜.

 

該製造商的真空離子鍍膜技術, 利用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 轟擊靶材形成離子, 並使離子在強磁場的驅動下吸附於鑽頭或鑼刀上形成鍍層, 製備出鍍膜鑽頭及鍍膜銑刀.

用於濺射的 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數:

射頻離子源型號

RFICP 380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由：

聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染

 

運行結果:

  1. 結果表面, 採用鍍膜鑽頭, 可以明顯增加鑽孔孔限, 減少披鋒, 節約成本；
  2. 採用鍍膜銑刀進行銑邊及成型加工時, 有利於減少產品的披鋒、毛刺及銑刀斷刀, 提高生產效率及節約成本

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  測漏儀,  質譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國 inTEST 高低溫衝擊測試機,  美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 

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上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王小姐
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