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伯東 KRI 考夫曼射頻離子源用於純鈦表面氨基化改性的研究
某機構為了研究離子源處理純鈦材料表面的時間長短對純鈦材料表面生物活性及親水性的影響, 採用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP 380 用於純鈦表面氨基化改性的研究.
試驗樣品: 8mm X 8mm的厚度 1 mmde TA2型純鈦線
試驗流量簡介: 通過對試驗樣品進行刻蝕時間長短不同形成不同的清潔表面, 然後通過儀器分析其親水性
用於刻蝕的 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數:
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射頻離子源型號 |
RFICP 380 |
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Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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推薦理由:
使用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 可以準確、靈活地對樣品選定的區域進行刻蝕
試驗結論:
N2和 NH3 的混合氣體射頻離子源處理純鈦表面, 可以在表面引入氨基, 但處理時間並不是越長越好, 改性後的鈦片表面的親水性得到較大的提高, 但隨放置時間的增加其表面親水性會變差, 在5h內, 改性鈦片保存在氮氣氣氛中有利於保持其親水性.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 測漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫衝擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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