新品訊息
伯東代理日本 Atonarp 半導體排氣監測用質譜分析儀 Aston™
伯東公司日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 專為半導體生產而設計, 實現工藝過程控制, 作為一個強大的平臺, Aston™ 可以取代多種傳統工具, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產中的氣體偵測分析, 實現尾氣在線監控, 診斷並在一系列應用中提供前所未有的控制水準, 適用於光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
Aston™ 質譜分析儀耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液, 能夠在半導體生產遇到的惡劣工況下可靠運行, 與傳統質譜分析儀相比, 使用 Aston™ 的維修間隔更長. 它包括自清潔功能, 可消除由於某些工藝中存在的冷凝物沉積而導致的污垢積累.
Aston™ 特性
即時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導體製造的分子分析原位平臺, 提供即時, 可操作的資料
採用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產工具完全集成
Atonarp Aston™ 技術參數
|
類型 |
Impact-300 |
Impact-300DP |
Plasma-200 |
Plasma-200DP |
Plasma-300 |
Plasma-300DP |
|
型號 |
AST3007 |
AST3006 |
AST3005 |
AST3004 |
AST3003 |
AST3002 |
|
質量分離 |
四級杆 |
|||||
|
真空系統 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
|
檢測器 |
FC /SEM |
|||||
|
質量範圍 |
2-285 |
2-220 |
2-285 |
|||
|
解析度 |
0.8±0.2 |
|||||
|
檢測限 |
0.1 PPM |
|||||
|
工作溫度 |
15-35“℃ |
|||||
|
功率 |
350 W |
|||||
|
重量 |
15 kg |
|||||
|
尺寸 |
299 x 218 x 331 LxWxH(mm) |
400 x 240 x 325 LxWxH(mm) |
||||
Aston™ 質譜分析儀 CVD 典型應用: Dry pump 幹泵排氣在線監測,診斷
在惡劣的 CVD 環境中, Aston™ 利用可操作的數據預測和預防因 PV-CVD 幹泵引起的災難性故障, 能夠對破壞性腐蝕或沉積進行預測建模, 優化氮氣吹掃成本.
適用場景: 多個腔室連接到1個幹泵, 高濃度的電介質會導致災難性的泵故障 (一次損失 10-100 片的晶圓)
通過使用伯東 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 可以提高半導體製造工藝的產量, 輸送量和效率, 此款質譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進行安裝, 也可將其加裝到已運行的現有腔室, 可在短時間內實現晶圓更高產量!
若您需要進一步的瞭解 Atonarp 詳細資訊或討論, 請參考以下聯絡方式：
上海伯東: 葉女士 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-3511 ext 109 T: +886-03-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-03-567-0049
M: +86 1391-883-7267 M: +886-939-653-958