市場訊息

伯東 KRI 無柵霍爾離子源 eH 3000 輔助鍍制高品質光學薄膜

 

某大型工業薄膜製造商採用伯東 KRI 無柵霍爾離子源 eH 3000 輔助熱蒸發技術鍍制高品質光學薄膜, 以獲得良好的機械性能和光學特性的薄膜, 同時獲得與基體牢固結合和優良性能的高品質薄膜.

 

其工作系統如下圖:

 

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.

 

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:

離子源型號

 

霍爾離子源

eH3000
eH3000LO
eH3000MO

Cathode/Neutralizer

HC

電壓

50-250V
50-300V
50-250V

電流

20A
10A
15A

散射角度

>45

可充氣體

Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

氣體流量

5-100sccm

高度

6.0“

直徑

9.7“

水冷

可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

 

該製造商的離子源輔助鍍膜系統由霍爾離子源, 電源及控制系統和品質流量計 3部分組成, 如下圖:

 

其中霍爾離子源發射離子, 品質流量計向離子源提供氣體並保證氣流穩定, 電源及控制系統向離子源供電並保證放電參數放電電壓及電流穩定.

 

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 運行結果:

1. 適用工業規模生產

2. 獲得良好的機械性能和光學特性的薄膜

3. 獲得與基體牢固結合和優良性能的高品質薄膜

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  測漏儀,  質譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國 inTEST 高低溫衝擊測試機,  美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 

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