市場訊息

KRI 射頻離子源用於碳化矽微納結構表面刻蝕

 

為了解決飛秒鐳射加工硬質材料所帶來的表面品質差的問題, 國內某製造商用伯東聚焦型射頻離子源 RFICP 380 輔助飛秒鐳射加工技術對碳化矽微納結構表面進行刻蝕.

伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數:

射頻離子源型號

RFICP 380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由:

使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準確、靈活地對樣品選定的區域進行刻蝕、減薄.

 

工藝簡介:

在碳化矽表面製備微納結構圖形, 然後通過 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 對碳化矽微納結構進行刻蝕, 以調控結構的線寬和深度.

 

運行結果:

1. 結構表面粗糙度由約 106nm 降低到 11.8nm

2. 碳化矽線條結構周圍的毛刺基本消失, 線條結構表面的粗糙度得到顯著改善, 降低結構表面的粗糙度實現高平滑度微光學元件的製備

3. 通過 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 碳化矽菲涅爾波帶片展現出良好的聚焦和成像效果.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  測漏儀,  質譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國 inTEST 高低溫衝擊測試機,  美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要進一步的瞭解詳細資訊或討論,  請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權所有,  翻拷必究!