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伯東 KRI 霍爾離子源 eh 3000 用於清洗 PPS/ PEEK 襯底面

 

為了獲得具備電磁遮罩能力的 PPS, PEEK等高分子輕量化材料, 但 PPS, PEEK 導電性能差、無電磁波遮罩能力或者達不到理想的遮罩效果, 因此, 某機構採用磁控濺射鍍膜工藝對 PPS、PEEK 等材料結構件產品表面進行金屬化處理.

 

其工藝主要分為前處理、鍍膜、後處理等三個環節. 

 

前處理需要對 PPS/PEEK 待鍍襯底面進行 Hall 離子源清洗, 該機構採用伯東 KRI 霍爾離子源 eh 3000 對 PPS/ PEEK 襯底面進行清洗.

 

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 主要技術參數:

離子源型號

霍爾離子源 eH3000

Cathode/Neutralizer

HC

電壓

50-250V

電流

20A

散射角度

>45

可充其他

Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

氣體流量

5-100sccm

高度

6.0“

直徑

9.7“

水冷

可選

 

其濺射室需要沉積前本底真空抽到1×10-5Pa, 經推薦採用伯東經濟型分子泵組 HiCube 30 Eco, 其技術參數如下： 

泵組型號

進氣法蘭

分子泵
型號

抽速
氮氣l/s

極限真空
 hPa

前級泵型號

前級泵
抽速 m³/h

Hicube 30 Eco

DN 40 ISO-KF

 Hipace 30

22

1X10-7

MVP 015-2

1

 

運用結果：

  1. KRI 霍爾離子源 eh 3000 對襯底面良好的清洗, 提高了膜層的附著力
  2. 經濟型分子泵組 HiCube 30 Eco快速將本底真空抽到 1×10-5 Pa, 並穩定保持整個過程的真空度

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  測漏儀,  質譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國 inTEST 高低溫衝擊測試機,  美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要進一步的瞭解詳細資訊或討論,  請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
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