市場訊息
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 持續轟擊 TiN 薄膜獲得更優秀性能
在製備 TiN 薄膜過程中, 離子持續轟擊對 TiN 薄膜的結構和性能影響很大, 在離子持續轟擊作用下能夠獲得性能優異的TiN薄膜.
為了獲取性能優異的 TiN 薄膜, 國內某製造商採用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 對 TiN 薄膜進行持續轟擊. 工作系統簡單示意如下圖:
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 技術參數：
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射頻離子源型號 |
RFICP 380 |
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Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:
1. 大面積射頻離子源
2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求
3. 採用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求
4. 離子束流: >1500 mA
5. 離子動能: 100-1200 V
6. 中和器: LFN 2000
7. 採用自動控制器, 一鍵自動匹配
8. RF Generator 可根據工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW
9. 離子源採用模組化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝
10. 柵極材質鉬和石墨, 堅固耐用
11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others
應用結果：
通過使用 伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 持續轟擊 TiN 薄膜, 備的TiN 薄膜具有更緻密的結構, 更光滑的表面, 更好的結晶性, 更優異的機械性能和更好的腐蝕性能.
其使用前（左）和使用後（右）對比圖如下：
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 測漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫衝擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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