離子源 eH 200
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離子源 eH 200


KRI Ion Source eH 系列離子源結合是圓柱式及線性配置的離子槍 (ion source), 這些配置可以整合至多種真空工藝平臺, 包含鍍膜機, 傳送腔體, 捲繞式鍍膜機, 磁控濺射機, 連續式鍍膜機, 我們提供一套完整的方案包含離子源 (ion source), 電子中和器, 電源供應器(Compact Power Supply), 流量控制器 (MFC), 等等

KRI Ion Source eH 系列離子源 應用
eH 系列離子源是應用在標準或新型材料工藝, eH 系列產品科技可以在指定能量, 化學反應, 電流密度及投射軌道來產生及控制離子, 由於提供原子等級的細微加工能力, eH 離子源可以有效地以奈米精度來處理薄膜 (thin films) 及表面, 無論是本身密度的濃縮, 應力控制, 光學傳輸(photonics), 純淨度, 阻抗, 平滑介面, 附著力改善等等,

一般應用如下:
1. 離子輔助鍍膜及電子槍蒸鍍
2. 線上式磁控濺射及蒸鍍設備預清洗
3. 表面處理
4. 表面硬化層鍍膜
5. 磁控濺射輔助鍍膜
6. 離子刻蝕 (ion etching)
7. 偏壓離子束磁控濺射鍍膜

KRI Ion Source eH 系列離子源技術參數:



Model

eH 200, eH 200 LEHO

Cathode / Neutralizer

Yes

Anode module

Yes

Process gases

Inert, reactive, organic

Power controller

eH Plasma Power Pack

 

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