最新消息
No. | 新聞標題 | 日期 | 閱讀數 |
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1 | Hakuto 離子蝕刻機 7.5IBE 用於刻蝕矽微機械陀螺晶片 | 2020-11-23 | 0 |
2 | Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 用於提升碳化矽微光學元件的品質 | 2020-11-20 | 0 |
3 | Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-C 用於半導體晶圓刻蝕 | 2020-11-19 | 0 |
4 | 伯東離子刻蝕機 IBE 用於金銅鎳銀鉑等材料微米級刻蝕 | 2020-11-18 | 0 |
5 | Gel Pak VR 盤操作使用指引 | 2020-11-18 | 0 |
6 | KRI 考夫曼聚焦射頻離子源 RFCIP220輔助濺射製備 GdF3光學薄膜 | 2020-11-17 | 0 |
7 | 伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380 輔助濺射鍍制 Al2O3 薄膜 | 2020-11-16 | 0 |
8 | 伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助濺射沉積製備鋰硫電池正極片 | 2020-11-13 | 0 |
9 | 伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 用於清洗繼電器 | 2020-11-12 | 0 |
10 | 伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 用於修正高精度 CGH 基底 | 2020-11-11 | 0 |