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伯東公司為美国考夫曼公司離子源 離子槍 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 大中华總代理. 離子源發明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士將此專利授权 VEECO 生產. 於1978年考夫曼博士在美國自行創立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 美国考夫曼公司, 歷經30年離子源 離子槍之改良及研發並取得多項專利, 目前已在光學鍍膜 (Optical coating), IBAD (離子源助鍍), IBSD (離子濺鍍), IBE (離子刻蝕), DD(離子鍍膜)等等應用大量使用.

 

美國霍爾離子源EH200, EH400, EH1000, EH200, EH3000 係列不僅廣泛應用於生產單位, 且因離子抨擊能量強, 蝕刻效率快, 可因應多種基材特性,單次使用長久, 耗材成本極低, 操作簡易, 安裝簡易, 所以目前廣泛應用於許多蝕刻製程及基板前處理製程.  

 

伯東公司客戶案例: 國內某大學天文學系小尺寸刻蝕設備

1.  系統功能: 對於 Fe, Se, Te , PCCO及多項材料刻蝕工藝.

2.  樣品尺寸: 2吋矽晶片.

3.  實際安裝:

刻蝕設備: 小型刻蝕設備.

霍爾離子源

 

離子源 EH400HC 安裝於刻蝕腔體內.

霍爾離子源

 

離子源 EH400HC 控制單元操作        離子源EH400HC 實際點燃 (氬氣)

霍爾離子源

 

對於 FeSeTe 刻蝕應用, 離子源 EH400HC 條件: 110V/1.5A, 刻蝕速率 >20 A/Sec

霍爾離子源

 

對於 FeSeTe 刻蝕應用, 離子源 EH400HC 條件: 110V/1.5A, 刻蝕速率 >17 Å/Sec

霍爾離子源

EH400HC (霍爾離子源) 優點:

-          高離子濃度 (High density), 低能量(Low energy)

-          離子束涵蓋面積廣 (high ion beam sharp)               

-          鍍膜均勻性佳

-          提高鍍膜品質

-          模組化設計, 保養快速方便

-          增加光學膜後折射率 (Optical index)      

-          全自動控制設計, 超做簡易

-          低耗材成本

-          安裝簡易

-           

伯東公司主要經營產品 德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 幹式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用於各種條件下的真空測量 (真空計, 真空規管); 氦質譜測漏儀; 質譜分析儀；真空系統以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵,Polycold 冷凍機;美國 KRI  Kaufman 考夫曼離子源/離子槍和 inTEST 高低溫循環溫度控制系統。
 

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